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      氣體在半導體外延中起到的作用


      外延生長實際上主要是一個化學反應過程。硅外延生長使用的主要氣源是氫氣和氯硅烷類,如四氯化硅(SiCl4)、三氯甲硅烷(SiHCl3)和二氯甲硅烷(SiH2Cl2)。另外,為了降低生長溫度,也經常使用硅烷作為氣源。選擇使用哪種氣源主要由生長條件和外延層的規格來決定的,其中生長溫度是選擇氣源種類時要考慮的最重要因素。硅外延層生長速度和生長溫度的關系。?

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      2L、4L、8L、40L鋁合金鋼瓶、碳鋼瓶等注:凡含SO2、H2S、NO2、NH3等具有腐蝕性和反應活性氣體組份標準氣都采用特殊處理氣瓶貯存,并統一采用不銹鋼瓶閥;?

      貝斯特氣體主要氣體有汽車尾氣檢測標準氣體、環境監測標準氣、石油化工標準氣、儀器儀表標準氣、研制生產的標準氣體已取得國家制造計量器具許可證CMC證書(國制表標物10001697號)。廣泛應用于科研、醫療、環保、石油化工等領域

      企業名稱含義:貝斯特即英文“best”的音譯,含義為:要做就做最好。?
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